Penkios Japonijos elektronikos bendrovės susitarė drauge statyti 200 milijardų jenų vertės mikroschemų gamyklą.
Darbus ketinama pradėti 2006 metais. Pirmosios gamykloje pagamintos mikroschemos turėtų pasirodyti jau 2007-aisiais. Pirmi naujosios gamyklos produktai veikiausiai bus LSI mikroschemos, gaminamos naudojant 65 nanometrų technologinį procesą.
Naująją gamyklą įrengti bei eksplotuoti ketina įspūdingas tekančios saulės šalies bendrovių būrys – „Hitachi”, „Toshiba”, „Matsushita Electric”, „Mitsubishi Electric”, „Renesas Technology”.
Pirmasyk apie bendrą projektą rugsėjo mėnesį užsiminė „Hitachi” atstovai. Jų teigimu, bendradarbiavimas su kitomis kompanijos padeda efektyviai sumažinti didelius gamyklų įrengimo bei eksplotavimo kaštus.